真空鍍膜
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溶膠-凝膠法制備柱狀TiO2薄膜及其光催化性能研究
在石英基板上用溶膠-凝膠法旋涂制備單層厚度約為20 nm 的柱狀晶形貌TiO2薄膜,并研究了退火溫度對TiO2薄膜晶體結(jié)構(gòu)、微觀形貌、光催化活性能的影響規(guī)律。
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PLD制備CuAlO2薄膜的結(jié)構(gòu)與性能研究
本文以致密的CuAlO2陶瓷為靶材,采用脈沖激光沉積技術(shù)在藍寶石和石英襯底上制備CuAlO2薄膜,并對樣品進行退火處理,研究退火條件對薄膜結(jié)構(gòu)和性能的影響。
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氫化處理對Li-W共摻雜ZnO薄膜性能的影響
本論文主要通過對比討論了Li-W 共摻雜( LWZO) 薄膜及LWZO:H 薄膜的結(jié)晶性能、表面形貌、光學性能的影響以及分析了氫化處理對LWZO薄膜的摻雜效率的影響。
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H13鋼-TiAlN滲/鍍復(fù)合層承載能力研究
在H13 鋼離子氮化基體上沉積TiAlN 鍍層,在其表面形成滲鍍復(fù)合層,研究滲氮基體不同表面預(yù)處理對滲/鍍復(fù)合層微觀形貌及承載能力的影響。
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立方氮化硼薄膜的制備及研究
本文采用過渡層技術(shù),在硅片上先沉積三元BC-N過渡層,再沉積c-BN層,有效地降低薄膜內(nèi)應(yīng)力,實現(xiàn)了c-BN厚膜的制備。同時,本文也對薄膜的結(jié)構(gòu)、成分、表面狀態(tài)和納米硬度進行了表征。
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Ti6Al4V表面沉積TiCN薄膜的結(jié)構(gòu)及水環(huán)境中的摩擦學性能
本文即采用多弧離子鍍技術(shù)在Ti6Al4V合金表面沉積TiCN薄膜,研究了該薄膜的形貌、結(jié)構(gòu)以及在干摩擦、水和海水環(huán)境條件下的摩擦學行為。
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鋼鐵基體沉積金剛石膜的研究進展
本文對不同成分和組織鋼鐵基體化學氣相沉積金剛石膜的影響因素進行了分析,綜述了鋼鐵表面化學氣相沉積金剛石膜的國內(nèi)外研究現(xiàn)狀,指出了今后鋼鐵上沉積金剛石膜的發(fā)展方向。
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基于氧化錫薄膜的表面?zhèn)鲗?dǎo)場致發(fā)射陰極陣列的制備及性能研究
利用磁控濺射和陽光刻技術(shù)在玻璃基底上成功制備了不同厚度SnO2的表面?zhèn)鲗?dǎo)場致發(fā)射陰極陣列,并測試其場致發(fā)射性能。
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氧分壓影響中頻磁控濺射沉積SiO2薄膜光學性能研究
本文采用中頻反應(yīng)磁控濺射法制備SiO2 薄膜并對其性能進行了研究。對于氧分壓影響薄膜結(jié)構(gòu)和性能的機制進行了深入的分析。
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新一代太陽能集熱板真空鍍膜生產(chǎn)線系統(tǒng)的開發(fā)
采用連續(xù)式太陽能集熱板真空鍍膜生產(chǎn)方式,以提高集熱膜層在大氣中使用的耐候性能及集熱性能為目的的膜層、膜系研究和設(shè)備結(jié)構(gòu)的研制,是當前太陽能集熱器光譜選擇性吸收膜層研究、生產(chǎn)和發(fā)展的主要方向。
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多弧離子鍍TiN薄膜顏色性能的研究
本文旨在系統(tǒng)研究大顆粒、氮氣流量與靶電流對膜層色澤的影響及其變化規(guī)律,為采用多弧離子鍍制備氮化鈦仿金裝飾膜及優(yōu)化膜層色澤提供依據(jù)。
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陰極弧離子鍍制備AlCrN涂層的高溫摩擦磨損行為
本文采用陰極弧離子鍍法在TiC金屬陶瓷刀具表面制備了AlCrN涂層,分析其在900℃高溫下摩擦磨損行為,為超大型齒圈高效切削加工提供技術(shù)參考。
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層狀Cr2AlC納米晶的合成及其摩擦學行為
本工作以Cr、Al、石墨單質(zhì)為原料,通過優(yōu)化混料方式( 磁力攪拌混料) ,采用無壓燒結(jié)方法合成了Cr2AlC粉末,開展了Cr2 AlC 納米材料在潤滑油中摩擦學性能的研究。
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不同調(diào)制周期TiAlSiN/Mo2N 層膜的微觀結(jié)構(gòu)、力學和摩擦性能研究
本文利用射頻磁控濺射法制備一系列不同調(diào)制周期的TiAlSiN/Mo2N 薄膜,研究其微結(jié)構(gòu)、力學性能和摩擦性能。
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Ag超薄膜生長的動力學蒙特卡羅模擬
本論文采用二維動力學蒙特卡羅的方法模擬了Ag薄膜在Pt(111)上的生長過程,并將仿真結(jié)果與國外已報道的實驗結(jié)果進行了比較,從而證明計算機仿真模型的合理性。進一步地,通過計算機模擬預(yù)測了島形貌明顯轉(zhuǎn)變的溫度區(qū)
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